China avanza en litografía EUV con prototipo propio pese a sanciones occidentales

En un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, un equipo de científicos chinos completó a inicios de 2025 un prototipo funcional de una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), considerada clave para fabricar chips de última generación. De acuerdo con fuentes cercanas al proyecto, el equipo estuvo integrado por exingenieros de ASML y la máquina “ocupa prácticamente todo el piso de una planta industrial”.

Las máquinas EUV son esenciales para grabar circuitos microscópicos en obleas de silicio, lo que permite producir chips más potentes y eficientes. Aunque el prototipo chino ya logra generar luz ultravioleta extrema, aún no ha conseguido fabricar chips plenamente funcionales. “El sistema está operativo, pero sigue en fase de pruebas”, señalaron las personas consultadas.

Este avance contrasta con declaraciones previas de ejecutivos occidentales. En abril, el director ejecutivo de ASML, Christophe Fouquet, había advertido que China necesitaría “muchos años” para desarrollar esta tecnología. Sin embargo, la existencia del prototipo sugiere que el país podría estar más cerca de reducir su dependencia extranjera de lo previsto por analistas internacionales.

Pese al progreso, persisten desafíos técnicos significativos, especialmente en la replicación de sistemas ópticos de precisión. El proyecto forma parte de una iniciativa gubernamental de varios años orientada a la autosuficiencia en semiconductores, una prioridad estratégica para Pekín, desarrollada con un alto nivel de confidencialidad, según fuentes locales.